文献类型： 中文期刊

作者： 石敏 ¹ ; 王炳祺 ² ; 李兆歆 ³ ; 朱登明 ⁴ ;

作者机构： 1.华北电力大学控制与计算机工程学院

2.中国农业科学院农业信息研究所

3.中国科学院计算技术研究所前瞻研究实验室

4.太仓中科信息技术研究院

关键词： 三维重建;纹理映射;高光处理;纹理渲染;位姿校正

期刊名称： 图学学报

ISSN： 2095-302X

年卷期： 2024 年 45 卷 001 期

页码： 148-158

收录情况： 北大核心 ; CSCD

摘要： 纹理映射作为三维重建的重要步骤,直接关系到生成模型的视觉效果.传统的纹理映射方法通常使用简单的混合方法来获取表面纹理.通过将模型表面投影到每个纹理图像上来获取相应的纹理区域,然后将它们混合在一起以获取表面纹理.然而,由于相机位姿的不准确性,纹理映射结果存在明显的模糊和鬼影等问题.此外,在高光环境下获取的纹理图像很容易包含高光区域,最终导致纹理颜色的丢失,降低纹理的真实性.为了解决这些问题,提出了一种无缝纹理映射方法,可以有效消除高光反射.通过衡量纹理图像的质量,为每个模型表面选择最佳的纹理图像,并利用色度一致性约束优化的相机位姿以消除明显的纹理错位.针对高光问题,提出了一个高光处理模块,使用多视图图像信息并基于双色反射模型定位和处理高光纹理.最后,对纹理图进行纹理颜色一致性调整,以处理纹理之间的颜色差异.实验结果表明,与现有方法相比,提出的算法可以有效消除高光反射的影响,从而获得更好的纹理映射结果.